Wat zijn de classificaties van machines voor het coaten van vacuümionen?- Ningbo Honyu Vacuum Technology Co., Ltd.

In vacuüm coating machine wordt veel gebruikt in het leven, omdat het niet-vervuilend is, de voordelen heeft van hoge afzettingssnelheid, hoge ionisatiesnelheid, grote ionenenergie, eenvoudige bediening van apparatuur, lage kosten, enz., Dus het is geliefd bij veel bedrijven, dan is het vacuüm Wat is het principe van ioncoating van de coatingmachine? Laat me je in detail voorstellen:

Films worden in vacuüm vervaardigd, inclusief het plateren van kristallijn metaal, halfgeleiders, isolator en andere elementaire of samengestelde films. Hoewel chemische dampafzetting ook vacuümmethoden gebruikt, zoals verminderde druk, lage druk of plasma, verwijst vacuümcoating in het algemeen naar de afzetting van dunne films door fysieke methoden. Er zijn drie vormen van vacuümcoating, namelijk verdampingscoating, sputtercoating en ioncoating.

Ionenplating is het gebruik van gasontlading of gedeeltelijke ionisatie van verdampte stoffen in een vacuümkamer, en tegelijkertijd met het bombardement van gasionen of deeltjes van verdampte stoffen, worden de verdampte stoffen of reactanten op het substraat afgezet. Ionenplating combineert op organische wijze het fenomeen van glimontlading, plasmatechnologie en vacuümverdamping, wat niet alleen de filmkwaliteit aanzienlijk verbetert, maar ook het toepassingsbereik van dunne films uitbreidt. De voordelen zijn een sterke filmhechting, goede diffractie en een breed scala aan filmmaterialen. Er zijn veel soorten ionencoating en de genezingsmethoden van verdampingsbronnen omvatten weerstandsverwarming, elektronenstraalverwarming, plasma-elektronenstraalverwarming, hoogfrequente inductieverwarming, enz.

Multi-arc ion-plating is echter heel anders dan algemene ion-plating. Multi-arc ion-plating maakt gebruik van boogontlading in plaats van de glimontlading van traditionele ion-plating voor afzetting. Simpel gezegd, het principe van multi-arc ionplating is om het kathodedoel als verdampingsbron te gebruiken, en door de boogontlading tussen het doel en de anodebehuizing, wordt het doelmateriaal verdampt, waardoor een plasma in de ruimte wordt gevormd en wordt afgezet het substraat.3